Ofrecer trifluoruro de nitrógeno, agente de limpieza química, flúor del gas láser químico de alta energía del fabricante de China

Li- (CFX) N Batería electroquímica
3V de litio de litio a batería
Sub batería de litio de 3V
Polimador de litio lon batería
Batería de almacenamiento de energía
- Batería de almacenamiento de energía de movimiento al aire libre
Batería alcalina de 1.5V
Isótopos estables
- Isótopo estable B-11
Materiales de intermedios farmacéuticos que contienen flúor
- Materiales biomédicos de perfluorooctane
Materiales de proceso de semiconductores
Materiales de fluoruro de carbono de función especial
Nuevos materiales de batería de energía

China Nitrógeno trifluoruro de materiales de proceso semiconductores Proveedores

El trifluoruro de nitrógeno en la industria de la microelectrónica es una especie de excelente gas de grabado en plasma, que se agrieta en iones de flúor activo durante el proceso de grabado en plasma. Para el grabado en plasma del nitruro de silicio y silicio, el uso de trifluoruro de nitrógeno tiene una mayor velocidad de grabado y selectividad que el uso de tetrafluoruro de carbono o tetrafluoruro de carbono y gas mixto de oxígeno, especialmente en el proceso de grabado de material de circuito integrado con el espesor de menos de 1.5 μM,, El trifluoruro de nitrógeno tiene una excelente tasa de grabado y selectividad, lo que es más, no hay contaminación en la superficie del material grabado, también es un buen agente de limpieza.